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单腔体脉冲激光沉积系统
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单腔体脉冲激光沉积系统-PLD PLD工艺生长腔 ◉ 选用圆球形或圆柱形腔体，极限真空度优于 5 x 10-8 mbar ◉ 腔体法兰口包括：主抽气口、样品台、靶台、工艺进气口、全量程真空计、工艺真空计、RHEED 电子枪、荧光屏、观察窗等，也可以预留其他法兰口，比如红外测温、等离子体源、磁控溅射源等 ◉ 腔体支持真空烘烤，最高烘烤温度可达200 度 ◉ 快开门维护法兰 ◉ 多角度观察窗，兼顾腔内各核心部件观测 PLD样品台 样品台采用多种加热方式，包括电阻式加热，辐射式加热，红外激光加热；
电阻式加热样品台 ◉ 样品区域： 最大2英寸/15 x 18 mm方形区域（适用于旗型样品托）； ◉ 最高加热温度：1000°C； ◉ 加热器可整体插拔传送； ◉ XYZ三维位置可调； ◉ K-type热电偶测温；
◉ 样品区域： 最大2英寸； ◉ 最高加热温度：1000°C(铂铑合金加热丝，抗氧压)； ◉ 样品实际温度可达800°C，衬底无需银胶固定；
◉ 样品区域： 最大1英寸； ◉ 激光器：980 nm固体红外激光器，光纤导入； ◉ 最高加热温度：1400°C； ◉ SiC夹层K-type热电偶或者光学红外测温； ◉ XYZ三维位置可调； PLD靶台 ◉ 靶位：4/5/6 x 最大1英寸； ◉ 程控公自转设计； ◉ 靶位自动选取； ◉ 靶台整体取放或单独靶托取放； ◉ XYZ多轴运动可选； PLD工艺气路 ◉ 全金属密封质量流量计； ◉ 分子泵旁抽/闸板阀限制抽速，流量计PID控压，或碟阀控压； ◉ Ar/N2/O2多种气体混合方式可选； ◉ 支持静态/动态退火工艺 激光光路 ◉ 根据脉冲激光沉积系统和实验室场地的实际尺寸具体设计； ◉ 利用几何光学成像原理在光路上放置有光阑、反射镜和透镜； ◉ 光路被完整限制在亚克力有机玻璃包裹的铝型材框架内； ◉ 入射高度/焦距/角度根据系统和实验室空间设计； ◉ 激光器可融入光路内，节省空间； ◉ 出射光斑和强度优化； 光路拓展 ◉ 合理配置光路系统可有效提高激光器效率； ◉ 具体分光光路可根据实验室实际空间尺寸确认； ◉ 我们可提供成套解决方案； ◉ 设备尺寸小，操作简单，可以和国内外其他品牌的脉冲激光沉积系统配合，如荷兰TSST、美国Neocera、日本Pascal、德国Surface，俄罗斯Bluewave，美国NBM、以及各国产厂家生产的相关脉冲激光沉积系统。
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