脉冲激光沉积系统-PLD
磁控溅射镀膜系统-MSD
定制真空系统
超高真空组件配件
微波等离子体化学气相沉积设备
可插拔电阻式加热器
适用于脉冲激光沉积系统(PLD)、磁控溅射系统(sputtering)、电子束蒸发系统(E-beam evaporation)等。
我们不仅提供全新的加热器,还提供快修服务。为您省去购新成本。24小时相应,三个工作日内完成快修。
配置特点:
◉ 支持方形和圆形加热台
◉ 铠装加热丝,可在高氧压(50 Pa)下长时间稳定工作
◉ 接头镀金和焊接优化
◉ 一体设计,可兼容旗形样品拖
◉ 最高加热温度 1000 C
最高加热温度: 900°C
最大1英寸: 最大1英寸
加热稳定性: ±1°C
升温速率: 20°C/min
北京珀菲特科技有限公司
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