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南昌大学-多腔体脉冲激光沉积系统2022年7月5日-11日，我司在南昌大学材料科学与工程学院安装完成2套脉冲激光沉积系统（PLD），并顺利通过了客户的验收，设备型号：SPLD-14。 整个设备布局为两套真空系统共用一台准分子激光器，其中： ◉ 样品台采用近红外激光加热，最高加热温度为1200°C，温度稳定性+/-1°C，可加热区域为直径 13 mm的圆斑； ◉ 靶台包含4个1英寸靶位，具有自转、公转和摇摆功能， ◉ 系统可以通过PLD控制软件编辑recipe进行自动生长。 ◉ 主要应用复杂氧化物材料（薄膜、陶瓷、单晶）的制备、物性及其应用研究， ◉ 目标器件：在钛酸锶（STO）或铝酸镧（LAO）衬底上生长铁磁性或铁电性薄膜。
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